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陶氏（DOW）拋光產(chǎn)品
GMT經(jīng)營陶氏化學(xué)（DOW）的拋光墊/拋光液/無蠟墊（template)產(chǎn)品，主要應(yīng)用于晶圓，硅片，CiN氮化硅，GaN氮化鎵，InP磷化銦，LT/LN 鉭酸鋰 鈮酸鋰，GaAs 砷化鎵，半導(dǎo)體，陶瓷，藍(lán)玻璃，光學(xué)，藍(lán)寶石，鋁合金等，行業(yè)的研磨拋光加工。
以下為GMT經(jīng)營拋光墊/拋光液的的主要型號(hào)，具體尺寸等規(guī)格歡迎洽詢：
Suba600
Suba800
IC1000/IC1010
Politex/H1001
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陶氏化學(xué)拋光墊
| 型號(hào) | 厚度 | 壓縮比 | 硬度 | 溝槽 |
| Suba400 | 1.27 | 8.6 | 60 | 可客制 |
| Suba400H | 1.28 | 6.9 | 67 | 可客制 |
| Suba600 | 1.27 | 2.9 | 81 | 可客制 |
| Suba800 | 1.27 | 2.7 | 84 | 可客制 |
| Suba840 | 1.27 | 2.1 | 86 | 可客制 |
| Suba800 M2 | 1.26 | 1.9 | 88 | 可客制 |
| Suba800 M4 | 1.26 | 2.3 | 87 | 可客制 |
| Suba800 T2 | 1.26 | 2 | 90 | 可客制 |
| Suba500 | - | - | - | 可客制 |
| Suba IV | 1.29 | 13.71 | 41.4 | 可客制 |
| Suba X | - | - | - | 可客制 |
| Politex Reg | - | - | - | 可客制 |
| Politex Hi | - | - | - | 可客制 |
| Politex Kiss | - | - | - | 可客制 |
| H1000系列 | - | - | - | 壓??? 花 |
| H1002 | 1.35 | 4 | 壓??? 花 | |
| IC1000系列 | - | - | - | - |
| MH 系列 | - | - | - | 可客制 |
| SPM3100 | - | - | - | - |
Politex/H1001
拋光液
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陶氏化學(xué)拋光液
| NP8020 | NP8040 | NP8050 | NP6501 | NP6502 |
| NP6504 | NP6610 | Klebosol 系列 | KU302A? | KU302B? |
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氧化鋁粉
規(guī)格:
＃240、＃280、 ＃320、＃400、＃500、＃600、＃700、＃800、＃1000、＃1200、＃1500、＃2000、＃3000、＃4000、＃6000
優(yōu)點(diǎn):
優(yōu)異的顆粒形狀和硬度的氧化鋁基精拋材料，在嚴(yán)格的晶質(zhì)管理下制造
應(yīng)用領(lǐng)域:
玻璃、陶瓷、光掩模、晶體、GaN、GaAs、GaP、InP、SiC表面研磨加工，可發(fā)揮極其卓越的加工性能，也可以放心地用于附加價(jià)值高的加工物。
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氧化鈰拋光液
適用于超精密光學(xué)平板玻璃及2.5D、3D手機(jī)保護(hù)屏玻璃的拋光。
特性
嚴(yán)格的粒徑控制、增強(qiáng)水合拋光、統(tǒng)籌拋光液流變性能、高拋光效率、精密的拋光表面(粗糙度低，劃傷低)、優(yōu)異的后續(xù)清洗性能
